真空規(guī)比對(duì)標(biāo)準(zhǔn)裝置期間核查方法

2009-05-29 趙光平 蘭州物理研究所真空低溫技術(shù)與物理國(guó)家級(jí)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室

        真空規(guī)比對(duì)標(biāo)準(zhǔn)裝置是采用動(dòng)態(tài)或靜態(tài)直接比對(duì)法校準(zhǔn)真空計(jì),是一臺(tái)操作方便、使用效率高的真空標(biāo)準(zhǔn)裝置。對(duì)真空規(guī)比對(duì)標(biāo)準(zhǔn)裝置采用比對(duì)法進(jìn)行期間核查。

        比對(duì)法有2 種情況,一種是2 臺(tái)設(shè)備技術(shù)指標(biāo)相同,另一種是2 臺(tái)設(shè)備技術(shù)指標(biāo)不相同,其中技術(shù)指標(biāo)低的為被核查設(shè)備。

1、技術(shù)指標(biāo)相同

        2 臺(tái)技術(shù)指標(biāo)相同的測(cè)量標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行比對(duì),比對(duì)結(jié)果差值為y-y0,應(yīng)滿足式(3)

2、技術(shù)指標(biāo)不同

        2臺(tái)技術(shù)指標(biāo)不同的測(cè)量標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行比對(duì),比對(duì)結(jié)果差值為y-y0,應(yīng)滿足式(4)

        式中U0 為技術(shù)指標(biāo)高的測(cè)量標(biāo)準(zhǔn)的擴(kuò)展不確定度;uc0 為技術(shù)指標(biāo)高的測(cè)量標(biāo)準(zhǔn)的合成標(biāo)準(zhǔn)不確定度

        選用靜態(tài)膨脹法真空標(biāo)準(zhǔn)裝置對(duì)真空規(guī)比對(duì)標(biāo)準(zhǔn)裝置進(jìn)行期間核查,這2 臺(tái)標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)指標(biāo)不相同,其中真空規(guī)比對(duì)標(biāo)準(zhǔn)裝置的技術(shù)指標(biāo)低。

        分別用靜態(tài)膨脹法真空標(biāo)準(zhǔn)裝置和真空規(guī)比對(duì)標(biāo)準(zhǔn)裝置對(duì)同一臺(tái)美國(guó)MKS 公司生產(chǎn)的1.33 kPa 電容薄膜真空計(jì)校準(zhǔn),校準(zhǔn)數(shù)據(jù)見(jiàn)表4、表5。

表4 靜態(tài)膨脹法真空標(biāo)準(zhǔn)裝置校準(zhǔn)數(shù)據(jù)

 靜態(tài)膨脹法真空標(biāo)準(zhǔn)裝置校準(zhǔn)數(shù)據(jù)

表5 真空規(guī)比對(duì)標(biāo)準(zhǔn)裝置校準(zhǔn)數(shù)據(jù)

 真空規(guī)比對(duì)標(biāo)準(zhǔn)裝置校準(zhǔn)數(shù)據(jù)

        表4 中,用靜態(tài)膨脹法真空標(biāo)準(zhǔn)裝置校準(zhǔn)電容薄膜真空計(jì)的平均修正因子為1.003;表5 中,用真空規(guī)比對(duì)標(biāo)準(zhǔn)裝置校準(zhǔn)的修正因子為0.998。根據(jù)式(4)計(jì)算得到二者的偏差為0.8%。

        靜態(tài)膨脹法真空標(biāo)準(zhǔn)裝置的擴(kuò)展不確定度U 為0.8%,真空規(guī)比對(duì)標(biāo)準(zhǔn)裝置的擴(kuò)展不確定度為3.4%,根據(jù)式(4)計(jì)算得

真空規(guī)比對(duì)標(biāo)準(zhǔn)裝置的擴(kuò)展不確定度

        二者的偏差為0.8%,小于3.5%,則真空規(guī)比對(duì)標(biāo)準(zhǔn)裝置技術(shù)狀態(tài)正常。

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